旧メンバー
2023年度
修士修了生
- 泉 隆博：Sc2O3-HfO2系蛍石型類似酸化物における照射誘起構造と散漫散乱の解析
- 岩崎 将成：高速重イオン照射δ-Sc4Zr3O12及びδ-Sc4Hf3O12における準安定規則相の生成と安定性
- 黒木 優成：Ba2YbNbO6添加YBa2Cu3O7-y薄膜のナノ構造とマイクロスケールにおけるナノロッド分布の可視化
- 髙瀬 慶人：HfO2/ZrO2多層薄膜の結晶化に及ぼす各膜厚と熱処理温度の影響
- 田原 千大：圧力・温度勾配下でのアモルファスGeの結晶化過程の解析
進路：就職5名（京セラ(2)、住友金属鉱山、東京エレクトロン、Bosch）
学部卒業生
- 大賀 美空：アモルファスGeにおける圧力誘起相変態と結晶化過程の分子動力学シミュレーション
- 河野 将太朗：銀添加生体活性ガラスの透過電子顕微鏡法による構造解析
- 野口 悠吾：高速重イオン照射β-Sc2Hf7O17およびγ-Sc2Hf5O13の構造解析
- 本坊 太一：Pイオン注入Pt薄膜の熱処理に伴う構造変化の解析
- 宮田 渓太郎：一層の膜厚が異なるHfO2/ZrO2積層薄膜の熱処理に伴う構造変化
進路：大学院進学（マテリアル工学コース3名、生体機能応用工学専攻1名）、三菱ケミカルエンジニアリング
2022年度
修士修了生
- 金澤 勇介：δ-Sc4Zr3O12及びδ-Sc4Hf3O12における高速重イオン照射誘起構造変化の研究
- 長岡 駿弥：温度勾配下におけるアモルファス Ge の結晶化過程の解析
- 東 賢人：BaHfO3、BaSnO3およびBa2LuNbO6添加YBa2Cu3O7-y薄膜構造に及ぼすパルスレーザー堆積時の
レーザー周波数の影響
進路：就職3名（鹿島建設、京セラ、ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング）
学部卒業生
- 岩貞 創大：β-Sc2Hf7O17およびγ-Sc2Hf5O13のNeイオン照射誘起構造変化の解析
- 大倉 隆平：大規模分子動力学法によるアモルファスGeの爆発的結晶化過程のシミュレーション
- 長井 一真：HfZrO2アモルファス積層膜の構造と熱処理に伴う結晶化の解析
- 野上 晴菜：YBa2Cu3O7-x薄膜中の人工ピンニングセンターの形態と分布の透過電子顕微鏡法による解析
- 船倉 梨花：高速重イオン照射δ-Sc4ZR3O12における構造変化の解析
進路：大学院進学（マテリアル工学コース3名、生体機能応用工学専攻1名）、三井ハイテック
2021年度
修士修了生
- 権藤 匡哉：ダブルペロブスカイト型ナノロッドを導入したYBa2Cu3O7-y薄膜の極微構造解析
- 茶圓 将史：Si固相エピタキシーにおける成長時導入欠陥の分子動力学法による解析
- 藤尾 亮汰：X線回折法および透過電子顕微鏡法によるアモルファスHf0.5Zr0.5O2薄膜の結晶化過程の解析
- 眞子 大輝：高速重イオン照射δ-Sc4Zr3O12及びδ-Sc4Hf3O12における照射誘起構造変化の透過電子顕微鏡
による解析
進路：就職4名（サンユレック、フジキン、本田技研工業、村田製作所）
学部卒業生
- 泉 隆博：希ガスイオン照射Sc2O3-HfO2系複合酸化物における構造変化の解析
- 岩崎 将成：高速重イオン照射δ-Sc4Zr3O12及びδ-Sc4Hf3O12における構造変化の回折結晶学的手法による解析
- 黒木 優成：透過電子顕微鏡法によるBa2GdNbO6またはBa2ErNbO6ドープYBa2Cu3O7-x薄膜の構造解析
- 髙瀬 慶人：Hf1-xZrxO2ゲート絶縁膜の結晶化に及ぼす組成と熱処理温度の影響
- 田原 千大：分子動力学法による温度勾配化でのアモルファスGeの結晶化過程の解析
進路：大学院進学（マテリアル工学コース5名）
2020年度
修士修了生
- 西隈 光右：化学気相成長法およびイオンビーム技術により作製したアモルファス炭化ホウ素の電子線動径分布解析
- 松山 広：Ni薄膜/Ge基板の熱処理に伴う構造変化の回折結晶学的手法による解析
- 本村 凌：電子線照射に伴うアモルファスGeSnの結晶化過程に及ぼす初期Sn濃度の影響
進路：就職3名（京セラ、下村特殊精工、日本工業検査）
学部卒業生
- 梅田 岳昌：照射誘起アモルファス炭化ホウ素の透過電子顕微鏡法による構造解析
- 金澤 勇介：高速重イオン照射Sc2O3-HfO2複合酸化物の透過電子顕微鏡による解析
- 嶋本 紗弓：アモルファスGeSnにおける電子線照射誘起結晶組織の構造解析
- 長岡 駿弥：分子動力学法によるアモルファスGeの爆発的結晶化過程の解析
- 二宮 有砂：高温Heイオン照射Ti3AlC2の透過電子顕微鏡による構造解析
- 東 賢人：Ba2LuNbO6ドープYBa2Cu3O7-y薄膜構造に及ぼすレーザー周波数と酸素アニールの影響
- 水町 育実：Hf0.5Zr0.5O2薄膜の結晶化に及ぼす膜厚と熱処理温度の影響
進路：大学院進学（マテリアル工学コース3名、他大学1名）、就職3名（東京海上日動システムズ、日東分析センター、三菱マテリアル）
特別聴講学生
- PARK Jaemin（パク ジェミン）（昌原大学校（韓国）学部3年）
2019年度
修士修了生
- 稲永 航平：電子線照射による高濃度Snを含む結晶GeSnの合成
- 平山 喜基：パルスレーザー堆積法により作製したSnSe薄膜の透過電子顕微鏡法による構造解析
- 水口 将輝：異なる組成を有するアモルファスSiOCの構造と耐照射性の関係
- 向野 廉司：分子動力学法によるアモルファスSiの圧力誘起構造相変態の解析
- 吉田 将司：人工ピンを導入したYBa2Cu3O7-y薄膜の透過電子顕微鏡観察に及ぼす温度の影響
進路：就職4名（京セラ、東京エレクトロン、トヨタ自動車、日立製作所、村田製作所）
学部卒業生
- 岡 壮磨：電子線照射に伴うアモルファスGeSnの構造変化
- 権藤 匡哉：ダブルペロブスカイト型構造の人工ピンを導入したYBa2Cu3O7-y薄膜の構造解析
- 柴田 裕太郎：アモルファスB4Cの分子動力学法による構造解析
- 茶圓 将史：Si固相エピタキシャル成長時に導入される欠陥の分子動力学法による解析
- 藤尾 亮汰：X線回折および透過電子顕微鏡法によるHf0.5Zr0.5O2ゲート絶縁膜の構造解析
- 眞子 大輝：δ-Sc3Zr4O12における照射誘起構造変化の透過電子顕微鏡法による解析
- 森下 和樹：透過電子顕微鏡法によるBiドープSnSe薄膜の構造解析
進路：大学院進学（マテリアル工学コース6名）、就職1名（GU）
特別聴講学生
- PARK Jaemin（パク ジェミン）（昌原大学校（韓国）学部3年）
2018年度
修士修了生
- 風間 裕貴： 透過電子顕微鏡その場観察によるNiGe/Geコンタクト形成過程および構造解析
- 河野 佳代：Si固相エピタキシャル成長過程の分子動力学法による解析
- 中村 亮太：人工ピンBaMO3(M=Sn,Hf)を導入したYBa2Cu3O7-y薄膜構造の温度依存性
- 東山 将士：アモルファスGeSnの熱処理に伴う結晶化過程の透過電子顕微鏡「その場」観察
進路：就職4名（トヨタ自動車、トヨタ自動車九州、日立製作所、村田製作所）
学部卒業生
- 小野 綾太：Ni薄膜/Ge基板の熱処理に伴う構造変化：基板方位、自然酸化膜、膜厚の影響
- 川浪 直樹：パルスレーザー堆積法により作製したSnSe薄膜の透過電子顕微鏡観察
- 西隈 光右：透過電子顕微鏡法によるアモルファス炭化ホウ素の構造解析
- 西崎 憲一：アモルファスSiO2におけるfirst sharp diffraction peakの分子動力学法による解析
- 本村 凌：電子線照射および熱処理に伴うアモルファスGeSnの構造変化
進路：大学院進学（物質工学専攻2名）、就職3名（アドバンテック、大分銀行、日鉄ロールズ）
特別聴講学生
- Taehwan KIM（金 泰煥）（昌原大学校（韓国）学部3年）
2017年度
修士修了生
- 井上 晋輔：透過電子顕微鏡法によるアモルファスSiOCの構造と照射誘起構造変化の解析
- 木村 俊樹：アモルファスGeSnの電子線照射に伴う結晶化過程の透過電子顕微鏡観察
- 篠崎 敬祐：透過電子顕微鏡その場観察法によるAuナノ粒子の融解挙動の解析
進路：就職3名（下村特殊精工、千住金属、日立金属）
学部卒業生
- 稲永 航平：アモルファスGeSnの熱処理および電子線照射に伴う構造変化の電子線動径分布解析
- 奥田 大樹：原子層堆積法によりGe基板上に成膜したアモルファスAl2O3の構造解析
- 下田 友弥：NiGe/Geコンタクト構造の透過電子顕微鏡法による解析
- 出口 岬：SiGe固相エピタキシャル成長の分子動力学シミュレーション
- 平山 喜基：透過電子顕微鏡加熱法によるAuナノ粒子の構造変化の解析
- 水口 将輝：電子線動径分布解析法によるアモルファスSiOCの構造解析
- 向野 廉司：アモルファスSiにおける圧力誘起構造相変態の分子動力学シミュレーション
- 吉田 将司：人工ピンを導入したYBa2Cu3O7-y薄膜の低温および室温における構造解析
進路：大学院進学（物質工学専攻7名、他大学1名）
特別聴講学生
- Yeonggyun KIM（金 煐均）（昌原大学校（韓国）学部4年）
2016年度
修士修了生
- 赤司 樹貴：SiCの照射損傷過程の分子動力学シミュレーション
- 今林 重貴：分子動力学法によるアモルファスGeの構造緩和過程と結晶化過程の解析
- 岡 直正：Zrイオン照射サファイアの熱処理に伴う構造変化と準安定相の形成
- 杉山 貴悟：透過電子顕微鏡法による新規超伝導体LaPt5Asの構造解析
- 松木田 直樹：人工ピンBaMO3(M=Sn, Hf, Zr)を導入したYBa2Cu3O7-y薄膜の構造解析
進路：就職5名（京セラ、千住金属、トヨタ自動車九州、日立金属、広島アルミニウム）
学部卒業生
- 風間 裕貴：透過電子顕微鏡法によるa-Al2O3/GeOx/Geの構造解析
- 河野 佳代：アモルファスⅣ族半導体における固相エピタキシャル成長の分子動力学シミュレーション
- 田島 遼太郎：He照射下におけるアモルファスSiOCの構造安定性
- 中村 亮太：人工ピンを層状に導入したYBa2Cu3O7-y薄膜の構造解析
- 東山 将士：透過電子顕微鏡その場観察による非晶質GeSn薄膜の結晶化過程の解析
- 堀切 香萌：修正原子挿入法によるアモルファスGeSnの分子動力学シミュレーション
進路：大学院進学（物質工学専攻5名、他大学1名）
2015年度
修士修了生
- 安達 省吾：Zrイオン照射α-Al2O3の構造とOイオン照射および熱処理に伴う回復過程
- 今田 健太：ナノ構造SiCの照射誘起アモルファス化に及ぼすイオン種の影響
- 髙瀨 良平：非晶質Ge1-xSnx薄膜の熱処理に伴う構造変化
- 渡邉 和輝：アモルファス Ge の構造と電子線照射に伴う構造変化
進路：就職4名（東芝、プライメタルズ テクノロジーズ ジャパン、三井金属鉱業、ヤンマー）
学部卒業生
- 飯盛 亜寿紗：Pd40Cu30Ni10P20金属ガラスの熱処理に伴う構造変化
- 石橋 昴平：アモルファスAl2O3の構造と熱処理に伴う構造変化の分子動力学シミュレーション
- 井上 晋輔：重イオン照射下における炭化ケイ素の耐照射性の解析
- 木村 俊樹：Ni-Siナノコンポジット薄膜の熱処理に伴う構造変化
- 近藤 皓太：分子動力学法によるアモルファスSiCの構造緩和過程の解析
- 佐藤 泰誠：ナノロッドを含むYBa2Cu3O7-yの断面及び平面試料の透過電子顕微鏡観察
- 篠崎 敬佑：Auナノ粒子の加熱による融解挙動の電子顕微鏡観察
進路：大学院進学（物質工学専攻3名）、就職3名（エヌジェイアール福岡、京セラ、下村特殊精工）、専門学校1名
特別研究学生
- 小林勇輝（甲南大学大学院修士1年）
特別聴講学生
- Yoonho BAE（昌原大学校（韓国）学部4年）
2014年度
学部卒業生
- 赤司 樹貴：耐照射性に優れたナノ構造材料の極微構造解析
- 今林 重貴：アモルファスGeの構造と構造緩和過程の分子動力学シミュレーション
- 岡 直正：Zr+イオン照射α-Al2O3の熱処理に伴う構造変化
- 近藤 俊一：Fe-Al-C系3元系炭化物の非化学量論性に関する実験的検討（指導：大谷博司教授（現：東北大学））
- 杉山 貴悟：ナノ結晶ZrO2における照射誘起構造変化の透過電子顕微鏡観察
- 藤原 泰造：Ni-Siナノコンポジット薄膜における結晶化過程の透過電子顕微鏡観察
- 松木田 直樹：BaSnO3およびBaHfO3を導入したYBa2Cu3O7-yの構造解析
- 宿里 拓磨：Pd基およびCo基金属ガラス薄膜の電子線構造解析
進路：大学院進学（物質工学専攻：5名、人間知能システム工学専攻：1名）、就職：1名（大谷塗料）
昌原大學校（韓国）特別聴講学生
- 張 文香（Moonhyang JANG）
2013年度
学部卒業生
- 安達 省吾：透過電子顕微鏡法によるZrイオン照射α-Al2O3の構造解析
- 今田 健太：透過電子顕微鏡法によるナノ構造SiCの照射誘起構造変化に関する研究
- 近藤 加寿心：Siベース熱電変換材料の透過電子顕微鏡観察
- 高岡 純士：透過電子顕微鏡法によるAuイオン照射GaNの構造解析
- 渡邉 和輝：アモルファスGe薄膜の電子線動径分布解析
進路：大学院進学（物質工学専攻：3名、生命機能専攻：2名）
